Área de identidad
Código de referencia
HOU-HOU/21-HOU/21/2
Título
Ephemera
Fecha(s)
- 1986 - 1997 (Acumulación)
Nivel de descripción
Sub-Series
Volumen y soporte
Área de contexto
Nombre del productor
Historia biográfica
Nombre del productor
Historia biográfica
Historia archivística
Origen del ingreso o transferencia
Área de contenido y estructura
Alcance y contenido
Valorización, destrucción y programación
Acumulaciones
Sistema de arreglo
Área de condiciones de acceso y uso
Condiciones de acceso
Condiciones
Idioma del material
- inglés
Escritura del material
Notas sobre las lenguas y escrituras
Características físicas y requisitos técnicos
Instrumentos de descripción
Área de materiales relacionados
Existencia y localización de originales
Existencia y localización de copias
Unidades de descripción relacionadas
Área de notas
Identificador/es alternativo(os)
Puntos de acceso
Puntos de acceso por materia
Puntos de acceso por lugar
Puntos de acceso por autoridad
- Richard Gow (Materia)
- Iain Minto (Materia)
- Nicholas Mayor (Materia)
- Steven Matthews (Materia)
- Guy Boyd (Materia)
- William Irving (Materia)
- Mark Tanner (Materia)
- Oliver Duce (Materia)
- Daniel Sanders (Materia)
- Robin Kirk (Materia)
- Alistair Bond (Materia)
- James Darrall (Materia)
- Samuel Radford (Materia)
- Benjamin Riley (Materia)
- Peter Nicholas (Materia)
- Christopher Herridge (Materia)
- Timothy Kemp (Materia)
- Graham Robson (Materia)
- Jean-Paul Bagur (Materia)
- Robert Harris (Materia)
- Thomas Rowley (Materia)
- Stephen Wigmore (Materia)
- Lewis Baines (Materia)
- Andrew Cummine (Materia)
- Roo Burrows (Materia)
- David Thomas (Materia)
- Bastian Bertram (Materia)
- Craig Fitches (Materia)
- Ole Jorek (Materia)
- Brian and Elizabeth Nicholls (Materia)
- Matthew Smith (Materia)
Tipo de puntos de acceso
Área de control de la descripción
Identificador de la descripción
Oakham School, Oakham, Rutland, United Kingdom.
Identificador de la institución
Reglas y/o convenciones usadas
Estado de elaboración
Borrador
Nivel de detalle
Parcial
Fechas de creación revisión eliminación
Idioma(s)
- inglés